硅片:国内大陆12英寸硅片完全依赖进口,上海新阳(上海新昇)在预计2017年底大硅片实现小规模量产,预计产能为7万-8万片/月。
对应标的:上海新阳;晶盛机电(生长炉设备);三安光电;中环股份(硅单晶-硅片综合实力全球第三)
超净高纯试剂:又称工艺化学品,是指主体成分纯度大于99.99%,杂质离子和微粒数符合严格要求的化学试剂,主要用于芯片的清洗、腐蚀和硅圆片表面的清洗。
对应标的:上海新阳;西陇科学;巨化股份;光华科技
电子气体:电子气体是超大规模集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业生产不可缺少的原材料,它们广泛应用于薄膜刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。
对应标的:南大光电;巨化股份;华特气体(870865);金宏气体(831450)
MO源:MO源即高纯金属有机化合物,或叫化合物半导体微结构材料,是先进的金属有机化学气相沉积(简称MOCVD)技术生长半导体微结构材料的支撑材料。
对应标的:南大光电
溅射靶极材料:靶材又名溅射靶材,是一种具有高附加价值的特种电子材料,主要使用在微电子,显示器,存储器以及光学镀膜等产业上,用于溅射各种薄膜材料。
对应标的:江丰电子;有研新材(砷化镓、磷化镓、锗单晶、金属溅射靶材);隆华节能(钼靶材行业龙头)
光刻胶材料:光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基衬底上的有机化合物。受紫外光曝光后,光刻胶在显影液中溶解度会发生变化,从液态变为固态。
对应标的:南大光电;强力新材;飞凯材料;万润股份(生产的光刻胶等产品应用于半导体领域)
抛光材料:抛光材料是指半导体基片化学机械(CMP)抛光过程中所用的材料。主要包括抛光垫与抛光液。抛光垫与抛光液的物理化学性能均对抛光质量有着重要影响。
半导体抛光材料技术壁垒高,市场集中度极高,高端产品主要被日美企业垄断。近年来,我国的抛光材料领域也发展迅速,2015年的抛光材料市场需求已达到18.14 亿元,安吉微电子生产的铜/铜阻挡层抛光液已进入国内外12英寸芯片生产线使用。
对应标的:鼎龙控股
传统封装流程
晶圆切割——划刀片/划刀液:上海新阳
贴片——基板引线框(有机基板):兴森科技;生益科技;深南电路;
引线框架:康强电子
引线键合:康强电子
模塑:无
电镀液:上海新阳;光华科技
切筋/成型:南大光电